CAS 54140-58-8|4-Biphenylylmethyl Acrylate
Non pwodwi: 4-Biphenylylmethyl Acrylate
Sinonim: Biphenyl-4-ylmethyl Prop-2-enoate; 4-Phenylbenzyl Acrylate
Nimewo CAS: 54140-58-8
Fòmil molekilè: C16H14O2
Pwa molekilè: 238.28 g / mol
Pite (GC): Pi gran pase oswa egal a 97%
Endèks refraktif: Segondè (bifenil aromat estrikti)
Inibitè: MEHQ, 100-200 ppm (personnalisable)
Aparans: Likid san koulè ak jòn pal
Anbalaj: 100g / 1kg / 25kg (koutim disponib)
Tan plon: 3-7 jou ouvrab nan stock
Te fè nan peyi Lachin|COA ak done GC & NMR yo bay ak chak lòd
- Livrezon atravè lemond
- Kalite asirans
- Sèvis Kliyan 24/7
Pwodwi Entwodiksyon
CAS 54140-58-8|4-Biphenylylmethyl Acrylate|Photoresist Monomer pou Semiconductor Lithographie|Lachin manifakti
Apèsi sou pwodwi a
Kòm yon manifakti ki baze sou Lachin, Alfa pwovizyon chimik4-Biphenylylmethyl Acrylate (CAS 54140-58-8), yon monomère acrylate ki wo-refraktif-endèks yo itilize nan fòmilasyon fotorezist, kouch optik, ak sistèm UV-geri. Nwayo aromat bifenil la bay yon endèks refraktif segondè, zo rèl molekilè rijid, ak gwo absòpsyon UV, ki gen valè nan litografi avanse ak aplikasyon optik.
Pwodwi a se yon likid san koulè jòn pal ak pitePi gran pase oswa egal a 97% pa GC. Li gen MEHQ inhibitor nan 100-200 ppm pou anpeche espontane polymerization pandan depo ak transpò. Nivo inibitè a ka Customized sou demann. Monomè a idrosolubl nan solvang photoresist komen ki gen ladan PGMEA, cyclohexanone, ak laktat etil.
Pou aplikasyon ki gen rapò ak semi-conducteurs, done kontni metal ion ka bay sou demann. Pou ki gen rapòfotorezist monomè ak materyèl elektwonik, eksplore seri Syans Materyèl nou an.
Aplikasyon endistriyèl
Yo itilize 4-Biphenylylmethyl Acrylate kote yon monomè akryat wo-refraktif-endèks, UV-reyaktif acrylate obligatwa. Kat zòn aplikasyon ki anba yo kouvri prensipal itilizasyon teknik ak komèsyal CAS 54140-58-8.
Defi:Photoresists avanse mande pou monomè ak endèks refraktif segondè, bon pwopriyete fim-fòme, ak konpatibilite ak Solvang Distribisyon ki baze sou PGMEA.
Solisyon: High-pite 4-biphenylylmethyl acrylate ak nivo inibitè kontwole.
Rezilta:Klè, fim inifòm ak adezyon bon ak endèks refraktif segondè, apwopriye pou fòmilasyon rezistans KrF / ArF-konpatib ak modèl optik.
Mande done teknik →Gwoup bifenil la bay fim polymerize yon endèks refraktif ki pi wo pase akrilat alkil estanda. Itilize nan kouch optik, kouch anti-reflektif, ak eleman mikwo-optik.
Mande yon quote →Itilize kòm yon diluan reyaktif oswa ko-monomè nan sistèm UV-geri kote pi wo endèks refraktif ak amelyore estabilite tèmik yo vle.
Mande yon echantiyon →Itilize kòm yon blòk bilding pou polymère fonksyonèl ki mande chèn bò aromat, endèks refraktif kontwole, ak estabilite tèmik.
Diskite sou bezwen koutim →Espesifikasyon teknik
Espesifikasyon pou4-Biphenylylmethyl Acrylate (CAS 54140-58-8)yo ki nan lis anba a. Pou COA pakèt espesifik ak done GC ak NMR, tanprikontakte nou.
| Atik | Spesifikasyon |
|---|---|
| Non pwodwi | 4-Biphenylylmethyl Acrylate |
| Sinonim | Biphenyl-4-ylmethyl Prop-2-enoate; 4-Phenylbenzyl Acrylate |
| Nimewo CAS | 54140-58-8 |
| Fòmil molekilè | C16H14O2 |
| Pwa molekilè | 238.28 g/mol |
| Aparans | Likid san koulè jòn pal |
| Pite | Pi gran pase oswa egal a 97% (GC) |
| Pwen bouyi | 120-128 degre |
| Dansite | 1.087 g / cm³ |
| Endèks refraktif | Segondè, akòz nwayo aromat bifenil |
| Inibitè | MEHQ, 100-200 ppm (personnalisable) |
| Solibilite | Soluble nan PGMEA, cyclohexanone, laktat etil, DMF, DMSO |
| Kondisyon Depo | 2-8 degre, pwoteje kont limyè, anba atmosfè inaktif |
| Opsyon anbalaj | 100g / 1kg / 25kg, koutim ki disponib |
| Dokiman | COA ak GC,1H RMN; SDS disponib sou demann |
Remak: Done kontni metal ion (Na, K, Fe, Cu, elatriye) ka bay sou demann pou aplikasyon ki gen rapò ak semi-conducteurs. Tanpri presize kondisyon ou lè w ap mande w.
Dokimantasyon Kalite
Sètifika analiz espesifik pou pakèt ak pite GC,1H RMN, ak nivo inhibiteur.
Fèy Done Sekirite pou manyen, depo, ak transpò san danje nan monomè akrilat.
Diskite sou done metal iyon, personnalisation inhibiteur, konpatibilite sòlvan, oswa kantite esansyèl.
Faktori & Kontwòl Kalite
4-Biphenylylmethyl Acrylate pwodui sou yon liy monomère akrylat dedye ak esterifikasyon kontwole ak etap pou pirifye. Chak lot yo teste pa GC pou pite ak pa1H RMN pou konfimasyon estriktirèl. Nivo inhibiteur verifye anvan anbalaj.
Se pwodwi a okipe anba limyè-pwoteje ak tanperati-kontwole kondisyon. Etablisman an sètifye ISO 9001. Pou aplikasyon ki gen rapò ak semi-conducteurs, analiz metal ion ka ranje sou demann.
Yon Sètifika Analiz (COA) ak done GC ak NMR bato ak chak lòd.Aprann plis sou enstalasyon nou yo →
Anbalaj & Shipping
Atik stock bato nan 3-7 jou ouvrab. Echantiyon yo ale pa eksprime entènasyonal; lòd esansyèl pa lè oswa machandiz lanmè. COA ak SDS bato ak chak lòd.
100g / 1kg / 25kg. Amber vè oswa HDPE kontenè ak dra gaz inaktif. Kantite koutim ki disponib.
Eksprime entènasyonal pou echantiyon; machandiz lè oswa lanmè pou lòd esansyèl. Atik stock bato nan 3-7 jou ouvrab. Ekspòtasyon mondyal.
COA ak done GC ak NMR, SDS, fakti komèsyal, lis anbalaj. Kòd HS bay sou demann.
Sere nan 2-8 degre, pwoteje kont limyè, anba atmosfè inaktif. MEHQ inhibitor prezan pou anpeche pwòp tèt ou-polymerization.
Pou anbalaj espesyal oswa demann ijan, tanprikontakte ekip nou an dirèkteman.
Poukisa chwazi Alfa Chemical
Monomè Acrylate pou aplikasyon pou photoresist ak optik mande pou pite konsistan, nivo inibitè kontwole, ak rezèv serye. Men sa Alfa Chemical bay pou 4-Biphenylylmethyl Acrylate.
Chak pakèt teste pa GC pou pite ak pa1H RMN pou konfimasyon estriktirèl. COA se pakèt espesifik.
Nivo MEHQ ka ajiste nan 100-200 ppm pou matche ak kondisyon fòmilasyon ou yo.
Pou aplikasyon ki gen rapò ak semi-conducteurs, analiz metal metal (Na, K, Fe, Cu) ka ranje sou demann.
100g echantiyon R&D, 1kg kantite pilòt, ak 25kg lòd esansyèl. Atik stock bato nan 3-7 jou ouvrab.
Kesyon yo poze souvan
Yo itilize li kòm yon monomè akrylat ki wo-refraktif-endèks nan fòmilasyon fotorezist, kouch optik, adezif UV-geri, ak sentèz polymère fonksyonèl.
Pite se pi gran pase oswa egal a 97% pa GC. Chak pakèt konfime tou pa1H RMN. COA se pakèt espesifik.
MEHQ prezan nan 100-200 ppm. Nivo a ka Customized sou demann. Tanpri presize sib ou lè w ap fè kòmann.
Analiz iyon metal (Na, K, Fe, Cu, elatriye) ka ranje sou demann pou aplikasyon ki gen rapò ak semi-conducteurs. Tanpri presize kondisyon ou.
Sere nan 2-8 degre, pwoteje kont limyè, anba atmosfè inaktif. Inibitè MEHQ a anpeche oto-polimerizasyon pandan depo.
Pake estanda ki pi piti a se 100g. Kantite koutim yo disponib.Kontakte noupou kondisyon espesifik ou.
Soluble nan PGMEA, cyclohexanone, laktat etil, DMF, ak DMSO. Apwopriye pou sistèm solvants komen photoresist.
Wi. Nou ka diskite sou sentèz koutim nan monomè ki gen rapò ak rezèv esansyèl. Tanpri pataje spesifikasyon sib ou lè w ap mande.
Bezwen pri oswa yon echantiyon pou CAS 54140-58-8? Nou reponn nan lespas 12 èdtan.
COA ak done GC ak NMR bato ak chak lòd.
Jwenn yon Quote Mande echantiyonPwodwi ak resous ki gen rapò:
Alfa Chemical Co, Ltd se yon manifakti ki baze nan Lachin nan pwodui chimik espesyalite ak materyèl elektwonik, ki baze nan Zhengzhou, Lachin. Nou bay 4-Biphenylylmethyl Acrylate (CAS 54140-58-8) ak monomè fotorezistan ki gen rapò ak R&D ak kliyan pwodiksyon atravè lemond.
* Tout espesifikasyon pwodwi yo se pou rezon referans. Itilizatè yo ta dwe fè pwòp tès konvnab yo nan kondisyon aktyèl yo. Pwodwi sa a se pou R&D ak itilizasyon endistriyèl sèlman. Pa pou aplikasyon pharmaceutique, manje, oswa kosmetik san tès espesifik konfòmite regilasyon.
Dènye mizajou: 24 septanm 2026.
Baj popilè: cas 54140-58-8|4-biphenylylmethyl acrylate, pri, sitasyon, rabè, nan stock, pou vann
